「集成电路布图设计专有权侵权案件」常见问题剖析！

　一、法律依据

二、布图设计独创性举证责任

三、专有权人的布图设计与被诉芯片应具有同一性

　1、布图设计专有权人应首先向法院明确其布图设计中具有独创性的内容，同时向法院提交自行比对的与被诉芯片具有同一性的结果。

2、被诉芯片复制全部布图设计中的任一独创性设计，即落入专有权保护范围。

3、尽可能选择布图设计图样作为检材与被诉芯片进行比对。

　4、同一性比对时，先行确定被诉芯片与布图设计相同部分，再就该部分是否具有独创性进行审查。

　　在深圳市华彩威科技有限公司与深圳市明微电子股份有限公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷案【广东省高级人民法院(2017)粤民终1145号】中：

　　“在侵犯集成电路布图设计案件中，判断被诉侵权产品是否构成侵权，可以先确定被诉侵权集成电路包含的布图设计是否与通华芯公司主张的布图设计相同或部分相同;再对相同部分是否具有独创性进行认定，如相同部分的具有独创性，则构成侵权。而对于是否相同的认定，在仅有被诉侵权芯片且当事人未提供被诉侵权布图设计的情况下，可以通过对被诉芯片反向提取其版图，即将通过反向工程提取被诉侵权芯片的器件层视图、金属层视图，与权利人的布图设计中对应的器件层及金属层进行是否相同或实质相同比对。

　　本案中，工信电司鉴中心[2013]知鉴字第55号《司法鉴定报告书》方法是，鉴定机构将从国家知识产权局调取的通华芯公司THX202H布图设计的电子版，与其委托北京芯愿景软件技术有限公司从被诉CR6202T中提取的布图设计进行比对。在比对时，先对整体布局比对;再按功能进行模块划分，比对各功能模块布图是否相同。涉案《司法鉴定报告书》第33页明确载明，芯愿景公司提取了CR6202T的器件层视图、M1视图和M2视图，故民展公司主张涉案鉴定报告未提取被诉侵权芯片的器件层视图的抗辩，缺乏事实依据。”

　　注释：

　　[1]根据国家知识产权局公开的集成电路布图设计专有权公告数据统计，从2001年10月1日至2016年12月31日，在我国登记公告的布图设计总计为12778件(包括国外的企业和个人在我国登记的所有布图设计专有权)。而2016年公告的全国集成电路布图设计专有权总量为1918件。

　　[2]同一性的鉴定需选择具有资质的司法鉴定机构,对此,笔者整理了近年来接受司法委托，并其所出具的鉴定结论为司法所认可的部分鉴定机构，如北京芯愿景软件技术有限公司、工业和信息化部软件与集成电路促进中心、北京紫图知识产权司法鉴定中心等。

　　来源：IPRdaily中文网(IPRdaily.cn)